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●機器名
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スパッタリング装置
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この機器は競輪の補助を受けて整備したものです。
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| ●概 要 |
薄膜（多層）を作製する装置です。
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| ●型 式 |
（株）アルバック製 isp－2000－LC3
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| ●仕 様 |
スパッタ方式：デポジションアップ、静止対向型マグネトロンスパッタ
基板サイズ：φ2インチ×1枚 ターゲットサイズ：φ2インチ×3枚 基板加熱：最大800℃ スパッタ電源：DC500W×1台 |
| ●活用事例 | 金属薄膜の作製 形状記憶等合金薄膜の形成 など |
| ●担 当 | 電子･情報担当 |
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